关于我们
综合新闻
研究方向
平台服务
专利及产业化
学习园地
集成电路创新技术
光子器件与集成技术
计算光刻中心
MEMS器件及系统
根据国际器件和系统路线图(IRDS2023),在集成电路逻辑技术领域,互补场效晶体管(CFET)是继FinFET和水平GAA之后的下一代晶体管架构。CFET技术通过将NMOS与PMOS器件垂直堆叠,改变传统平面工艺或FinFET/GAA的水平布局模式,在更小的空间内实现更高的集成密度和更佳的性能。... 详细 >>
业内热点
招生招聘
学位论文
高低温电学测试探针台
傅里叶红外光谱/多...
扫描电镜/原子力显...
键合对准及检测设备
晶圆级共晶键合设备
晶圆级扩散键合设备
化学机械平坦化设备
单片自动清洗设备
槽式自动清洗机
栅氧/多晶/退火卧...
RTP快速退火设备/...
超低能离子注入设...
原子层薄膜沉积设备
III-V MOCVD设备
SixGe1-x减压外延设备
金属蒸发镀膜设备
金属PVD溅射设备
介质CVD淀积设备
VHF/XeF 释放设备
深硅刻蚀机
介质/金属刻蚀机
接触式双面曝光机/...
20nm 电子束直写设...
0.18mm扫描式光刻...