论文编号: 1725110120150097
第一作者所在部门: 高频高压中心,微电子重点实验室
论文题目: Reducing the interface trap density in Al2O3/InP stacks by low-temperature thermal process
论文题目英文:
作者:
论文出处:
刊物名称: Applied Physcis Express
: 2015
:
: 8
: 0912011-0912014
联系作者: 王盛凯,刘洪刚
收录类别:
影响因子: 2.365
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