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  • 姓名: 王鑫华
  • 性别: 男
  • 职称: 副研究员
  • 职务: 所党委委员 高频高压中心主任 中科院硅器件重点实验室副主任
  • 学历: 博士研究生
  • 电话: 010-82995681
  • 传真: 
  • 电子邮件: wangxinhua@ime.ac.cn
  • 所属部门: 高频高压器件与集成研发中心
  • 通讯地址: 北京市朝阳区北土城西路3号

    简  历:

  • 教育背景 

    2003.92007.7  南京理工大学   电子科学与技术    学士学位 

    2007.92012.7  中国科学院微电子研究所  微电子与固体电子学  博士学位

     

    工作简历

    2012.72017.4  中国科学院微电子研究所  助理研究员,所团委委员 

    2017.4—至今    中国科学院微电子研究所  副研究员,所团委委员 

    其中,2017.5起所团委副书记,2018.12起高频高压中心副主任,2021.10起高频高压中心主任。 

    社会任职:

  • 中国科学院青年创新促进会会员 

    中国电力企业联合会电力集成电路标准化技术委员会委员 

    研究方向:

  • III族氮化物微波功率器件 

    化合物半导体界面物理与异质集成 

    承担科研项目情况:

  • 1.      中国科学院青年创新促进会会员项目; 

    2.      中科院科技服务网络(STS)区域重点项目,“硅基氮化镓增强型电力电子核心器件与产业化”项目,项目负责人; 

    3.      国家重大科研仪器研制项目,“新型GaN电子器件低界面态介质生长系统”项目,课题负责人; 

    4.      国家自然科学基金青年项目,“兼容CMOS工艺的Ga2O3辅助GaN-to-Si异质键合技术及机理研究”项目,项目负责人; 

    5.      国家自然科学基金重点项目,“宽频段全数字发信机设计理论与关键技术”项目,子课题负责人; 

    代表论著:

  • [1] Xinhua Wang, et al. Partially Crystallized Ultrathin Interfaces between GaN and SiNx Grown by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition and Interface Editing. ACS Appl. Mater. Interfaces, vol. 13, no. 6, pp. 7725–7734, 2021. 

    [2] Kexin Deng, Xinhua Wang, et al. Suppression and characterization of interface states at low-pressure-chemical-vapor-deposited SiNx/III-nitride heterostructures. Applied Surface Science, vol. 542, p. 148530, 2021. 

    [3] Xinyu Liu+, Xinhua Wang+,*, et al. “Insight into the Near-Conduction Band States at the Crystallized Interface between GaN and SiN x Grown by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition,” ACS Appl. Mater. Interfaces10(25), pp. 21721–21729 , 2018. 

    [4] Xinhua Wang, et al. Robust SiNx/AlGaN Interface in GaN HEMTs Passivated by Thick LPCVD-Grown SiNx Layer. IEEE Electron Device Letter, 36(7), p.666, 2015 

    [5] Wang Xinhua, et al. Effect of GaN Channel Layer Thickness on DC and RF Performance of GaN HEMTs With Composite AlGaN/GaN Buffer. IEEE Transaction on Electron Device. 2014, 61(5),p. 1341 

    专利申请:

  •  

    获奖及荣誉:

  • 2012年中国科学院院长优秀奖 

    2015年度微电子研究所十佳先进工作者 

    2020年中国科学院优秀共青团干部