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  • 姓名: 陈睿
  • 性别: 男
  • 职称: 研究员
  • 职务: 
  • 学历: 博士
  • 电话: +86-10-82995770
  • 传真: +86-10-82995684
  • 电子邮件: chenrui1@ime.ac.cn
  • 所属部门: 先导中心计算光刻中心
  • 通讯地址: 北京市朝阳区北土城西路3号

    简  历:

  • 教育背景

    2010年2月-2015年2月,美国纽约州立大学布法罗分校,电子工程系,博士

    2009年9月-2011年2月,美国纽约州立大学布法罗分校,电子工程系,硕士

    2004年9月-2008年6月,南京理工大学,电子信息工程系,学士

    工作简历

    2021年4月-至今,中国科学院微电子研究所,研究员

    2018年1月-2021年3月,中国科学院微电子研究所,副研究员

    2015年5月-2018年1月,美国格罗方德纽约研发中心,高级工程师

    社会任职:

    研究方向:

  • 先进光刻技术(Advanced Lithography)

    先进刻蚀工艺仿真(Advanced Etch Process Modeling)

    先进沉积工艺仿真(Advanced Deposition Process Modeling)

    承担科研项目情况:

  • 1、国家自然科学基金面上项目,集成电路关键图形工艺的模型研究,2019.1-2022.12,项目负责人

    2、中科院所长基金,刻蚀工艺模型研究,2018.7-2020.6,项目负责人

    3、校企产研项目,先进技术节点光刻工艺优化,2018.11-2021.12,主要技术负责人

    4、校企产研项目,先进技术节点ALE仿真模型及工艺验证,2021.1-2022.1,项目负责人

    5、校企产研项目,PECVD轮廓仿真软件开发,2020.4-2021.3,项目负责人

    6、国家科技重大专项(02专项),5nm光刻技术方案与设计规则优化2017.1-2020.12,项目骨干

    7、国家02科技重大专项(02专项),下一技术节点三维存储器的光刻方案研究,2018.1-2020.12,项目骨干

    8、中科院先导项目,2021.1-2023.12,项目骨干

    代表论著:

  • 著作:

    韦亚一、粟雅娟、董立松、张利斌、陈睿、赵利俊,《计算光刻与版图优化》,电子工业出版社,2020

    代表性论文:

    1.Rui Chen, Haoru Hu, Xiaoting Li, Ying Chen, Xiaojing Su, Lisong Dong, Lei Qu, Chen Li, Jiang Yan, Yayi Wei*, Etch model based on machine learning [C], 2020 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2-7 (2020).

    2.Rongbo Zhao, Lisong Dong, Rui Chen, and Yayi Wei, Aberration optimization in an extreme ultraviolet lithography projector via a BP neural network and simulated annealing algorithm, Applied Optics 60 (5), 1341-1348 (2021).

    3.Ying Chen, Yibo Lin, Rui Chen, Lisong Dong, Ruixuan Wu, Tianyang Gai, Le Ma, Yajuan Su, and Yayi Wei, EUV Multilayer Defect Characterization via Cycle-Consistent Learning, Optical Express, 28(12), 18493-18506 (2020).

    4.Lei Qu, Rui Chen*, Xiaoting Li, Jing Zhang, Yanrong Wang, Shuhua Wei, Jiang Yan, Yayi Wei*, Development and Prospect of Process Models and Simulation Methods for Atomic Layer Deposition [J], Journal of Microelectronic Manufacturing, 2(3) 19020204 (2019).

    5.Libin Zhang, Le Ma, Rui Chen, Jianfang He, Xiaojing Su, Lisong Dong, Yajuan Su, Yayi Wei*, Pattern quality and defect evaluation based on cross correlation and power spectral density methods [J], Journal of vacuum science & technology B, 36(5): 052902 (2018).

    6.Rui Chen*, Granger Lobb, Aleksandra Clancy, Bradley Morgenfeld, Shyam Pal. Line End Shortening & Iso-Dense Etch Bias Improvement by ALD Spacer Shrink Process [C], Proc. SPIE 10146, Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV, 101461D, San Jose, California, USA, March (2017).

    7.Rui Chen, Weilu Gao, Xuan Wang, Gregory R. Aizin, John Mikalopas, Takashi Arikawa, Koichiro Tanaka, David B. Eason, Gottfried Strasser, Junichiro Kono, Jonathan P. Bird. Gunn Effect in GaAs/AlGaAs Nanoconstrictions [J], IEEE Transactions on Nanotechnology, 14(3): 524-530 (2015).

    8.Rui Chen, Jungwoo Song, Teng-Yin Lin, Gregory R. Aizin, Yukio Kawano, Nobuyuki Aoki, Yuichi Ochiai, Vincent R. Whiteside, Bruce D. McCombe, David Thomas, Mike Einhorn, John L. Reno, Gottfried Strasser, and Jonathan P. Bird. Terahertz Detection With Nanoscale Semiconductor Rectifiers [J], IEEE Sensors Journal, 2013. 13, 24-30 (2013).

    9.Chun Pui Kwan, Rui Chen, Uttam Singisetti, and Jonathan P. Bird. Electric-Field-Induced Conductivity Mechanisms in Crystalline Chromia [J], Applied Physics Letters, 106, 112901 (2015).

    10.Weilu Gao, Xuan Wang, Rui Chen, David. B. Eason, Gottfried Strasser, Jonathan P. Bird and Junichiro Kono. Electroluminescence from GaAs/AlGaAs Heterostructures in Strong In-Plane Electric Fields: Evidence for k- and Real-Space Charge Transfer [J], ACS Photonics. 2(8): 1155-1159 (2015).

    专利申请:

  • 1.Ming Hao Tang, Yuping Ren, Rui Chen, Bradley Morgenfeld, Zheng G. Chen , Mark structure for aligning layers of integrated circuit structure and methods of forming same, US Patent 10,566,291, 2020. 

    2.Minghao Tang, Rui Chen, Yuping Ren, Interconnects with cuts formed by block patterning, US Patent 10319626, 2019. 

    3.Jiehui Shu, Jinping Liu, Rui Chen, Multiple patterning with variable space mandrel cuts, US Patent 10566195, 2020. 

    4.Wei Zhao, Minghao Tang, Rui Chen, Dongyue Yang, Haiting Wang, Erik Geiss, Scott Beasor, Asymmetric overlay mark for overlay measurement, US Patent 10707175 ,2020. 

    5.Wei Zhao, Ming Hao Tang, Haiting Wang, Rui Chen, et al., Isolation pillar first gate structures and methods of forming same, US Patent 10600914, 2020. 

    6.陈睿, 韦亚一, 唐明浩 ,张利斌, 马乐, 粟雅娟, 董立松, 何建芳, 王文武, 一种提高栅极均匀性的工艺, CN201911021285.6. 

    7.陈睿, 韦亚一, 唐明浩, 都安彦, 苏晓菁, 泰安, 郝芸芸, 王文武, 金属栅极的制造方法, CN201911021283.X 

    8.陈睿, 都安彦, 杨红, 韦亚一, 王文武, 一种自对准双重图形的制备方法、硬掩模图案, CN201910536868.6 

    9.陈睿, 都安彦, 韦亚一, 粟雅娟, 杨红, 董立松, 张利斌, 苏晓菁, 王文武, 一种先进节点后端金属通孔的制造工艺, 202010417361.1 

    10.陈睿, 都安彦, 韦亚一, 粟雅娟, 杨红, 董立松, 张利斌, 苏晓菁, 王文武, 一种提高后段金属线通孔的工艺窗的方法, 202010417479.4 

    获奖及荣誉:

  • 2021年 先导中心“科研之星”

    2018年 美国格罗方德公司“Spotlight Award”