新年新气象，奋斗正当时。面向新一轮科技革命和产业变革，广大科技工作者进一步增强紧迫感，加大科技创新力度，抢占科技竞争和未来发展制高点。近日，中央广播电视总台新闻频道推出系列报道《科技推动力 抢占科技制高点》。 详细 >>
高低温电学测试探针台
傅里叶红外光谱/多...
扫描电镜/原子力显...
键合对准及检测设备
晶圆级共晶键合设备
晶圆级扩散键合设备
化学机械平坦化设备
单片自动清洗设备
槽式自动清洗机
栅氧/多晶/退火卧...
RTP快速退火设备/...
超低能离子注入设...
原子层薄膜沉积设备
III-V MOCVD设备
SixGe1-x减压外延设备
金属蒸发镀膜设备
金属PVD溅射设备
介质CVD淀积设备
VHF/XeF 释放设备
深硅刻蚀机
介质/金属刻蚀机
接触式双面曝光机/...
20nm 电子束直写设...
0.18mm扫描式光刻...
京公网安备110402500036号
© 中国科学院微电子研究所 版权所有
地址:北京市朝阳区北土城西路3号 邮编:100029
邮箱:icac@ime.ac.cn
