当前位置 首页 科研工作 科技奖励
获奖题目:
获奖编号: D02-2007-025
获奖时间: 2008年12月
获奖名称: 100nm高密度等离子刻蚀机研发与产业化
主要完成人: 赵晋荣、张伯旭、耿锦启、张建勇、李东三、王宝全、李 兵、孙 岩、张秀川、刘利坚、赵梦欣、南建辉、夏 威、白志民、徐 华
完成单位: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司、中国科学院微电子研究所、清华大学、北京大学
成果介绍:
获奖类别: 北京市科学技术奖一等奖
获奖等级:
授奖部门: 北京市人民政府
开始日期:
结束日期:
登记人:
中国科学院微电子研究所版权所有 邮编：100029
单位地址：北京市朝阳区北土城西路3号，电子邮件：webadmin@ime.ac.cn
京公网安备110402500036号，京ICP备05002781号-1