作者信息：先导中心  韩江浩

图片描述：本作品显示的是国家重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺子课题：工艺整合及集成技术”中30纳米栅刻蚀后通过手工制样到扫描电镜测试后确定的剖面形貌，（图一为手工制样，图二为扫描电镜的剖面图片）。从制样到样品观测，每一步工作都要一丝不苟。这也是先导工艺平台的工程师经过上千次的实验最终获得的30纳米栅的陡直形貌。即使只是一个螺丝钉，我们大家依然立足本职，精益求精，最终不辱使命，共同完成了国家交给我们的任务。

实验方法：图一是刻蚀后通过手工制样（没有FIB制样设备，全部是手工切片），样品大小为：长10mm,高5mm,切出新鲜的剖面，通过扫描电子显微镜观测图二所示的陡直度、掩膜厚度等剖面形貌，为下一步实验优化提供重要依据。

取样仪器名称型号：Hitachi S5500扫描电子显微镜