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工艺平台技术能力

稿件来源: 发布时间:2023-11-06

 

     黄光区:步进式光刻机、接触式光刻机、匀胶机等设备
           
       薄膜区:电子束蒸发台、PECVD、溅射台、原子层沉积系统等设备
           
       刻蚀区:ICP、RIE、酸碱腐蚀台等设备
           
       后道工艺:减薄、抛光、划片等设备
           

 

 
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