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科研动态

芬兰倍耐克(Beneq)工程师原子层沉积技术及应用报告

稿件来源: 发布时间:2009-11-26

  1124,芬兰倍耐克公司(Beneq)李烁工程师来我所进行了“原子层沉积技术及应用”的学术介绍,并与三室师生进行了热烈的讨论与交流。

  李烁工程师讲到,原子层沉积(atomic layer depositionALD),最初于70年代由芬兰科学家提出,并用于平板显示器所需的多晶荧光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3绝缘膜的研制。多年来,原子层淀积技术的应用范围从液晶显示面板到工业涂层等多种领域。目前,正在逐渐成为微电子器件制造领域的必须。它具有单原子层逐次沉积,沉积层厚度均匀的特点,可沉积丰富的材料。

  通过这次交流,三室师生受益匪浅,不仅加深入了对原子层沉积技术的了解,同时又丰富了专业知识,为今后科研工作的展开打下了良好基础。  

                
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