当前位置 >>  首页 >> 科研工作 >> 科研动态

科研动态

四室工艺平台SPC体系建设成功

稿件来源: 发布时间:2010-12-30

  2010年12月,经过精心周密策划的微波器件与集成电路研究室(四室)统计过程控制(SPC)体系项目建设初步建设成功,这标志着四室的产品工艺质量管理水平即将迈上新的台阶。

  为了保障项目产品在制造阶段的质量,对工艺生产过程实行有效监控,及时预防并检测出特殊变异原因,采取对策,保持过程处于统计控制状态,在室领导的大力支持下,研究室于2010年2月成立SPC项目实施小组,由魏珂担任组长,组员涵盖工艺平台、测试平台、开发平台,以及各个课题组研究人员。室主任刘新宇研究员亲自负责SPC项目实施管理的督导工作。

  经过长达10个月的项目实施工作,在全体GaN课题组、测试平台和工艺平台成员的共同协助下,目前基本完成就SPC体系建立工作,实现了工艺平台设备和工艺流程的初步监控,为工艺平台设备和工艺流程的规范性管理打下了基础,保障了制造技术平台的技术水平和能力。

  针对SPC体系的建立,主要完成了四部分工作:

  1. 为保证SPC体系的有效运行,建立了适合于实施SPC的环境

  为保证SPC体系的有效运行,制定了详细的SPC体系建设推进计划和切实可行的实施方案,开展了3期SPC系统培训,并在工作中实行周例会Review机制,形成解决问题的闭环机制。为保障工序能力的持续进行,编制了一套SPC体系文件,通过质量处定期审核。

  2. 工艺控制点SPC的设定与控制方案

  通过对原有工艺平台和拟新增工艺环节的高级流程图分析,确定了36个关键过程节点, 针对初步设定的SPC控制点,我们在本课题研制产品的全部过程中加以严格监控,。

  3. 配置合适的测量系统

  为保证测试数据的稳定性和可靠性,按照测量系统分析程序和计划、SPC测试方案展开了一次系统的测量系统分析。通过进行测量系统分析(MSA),为配置合适的测量系统提供了保障。

  4. 工艺流程和工艺线设备的监控

  针对GaN功率器件制作流程,绘制了部分关键工艺控制图,实现了工艺过程的初步监控。

  针对监控过程发现SPC异常,基本采用闭环处理原则进行改进,让生产过程恢复到统计控制状态。

  通过对SPC体系的建设,使项目组成员对SPC有一个更全面的认识,能更好利用过程控制及改进思想、科学的统计方法进行科研活动,提高工作效率,合理分配资源,实现价值最大化。

  图1 SPC主要控制内容

  图2 测量系统分析实例(直流、小信号、Load-pull测试系统)图

  图3 处于受控状态的控制图、工序能力分析图实例

  

附件: