论文编号:
第一作者所在部门:
论文题目: A Short-Channel SOI RF Power LDMOS Technology With TiSi2 Salicide on Dual Sidewalls With Cutoff Frequency fT ~ 19.3 GHz
论文题目英文:
作者: Rong Yang, J. F. Li, H. Qian, G. Q. Lo, N. Balasubramanian, and D. L. Kwong
论文出处:
刊物名称: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
: 2006
: 27
: 11
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联系作者: Rong Yang
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