| 论文编号: | 172511O120100220 |
| 第一作者所在部门: | 三室一组 |
| 论文题目: | 多能点X射线透射光栅的制作技术 |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 陈国太 |
| 论文出处: | 其他国内刊物 |
| 刊物名称: | 微纳电子技术 |
| 年: | 2010 |
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| 影响因子: | 0.23 |
| 摘要: | 针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用，采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术，成功制备了周期为500nm、金吸收体厚度为350nm、占空比接近1：1，满足三个能点成像需求的2000 lp／mmX射线自支撑透射光栅。首先利用电子束光刻和微电镀技术制备金光栅图形，然后采用紫外光刻和微电镀技术制作自支撑结构，最后通过腐蚀体硅和感应耦合等离子体刻蚀聚酰亚胺完成X射线自支撑透射光栅的制作。在电子束光刻中，采用几何校正和高反差电子束抗蚀剂实现了对纳米尺度光栅图形的精确控制。实验结果表明，同一个器件分布的三块光栅占空比合理，栅线平滑，可以满足单能点单色成像谱仪的要求。 |
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