| 论文编号: | 1725110120140229 |
| 第一作者所在部门: | 十室一组 |
| 论文题目: | Combining a multi deposition multi annealing technique with a scavenging (Ti) to improve the high-k/metal gate stack performance for a gate-last process |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 张淑祥 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | Journal of Semiconductors |
| 年: | 2014 |
| 卷: | 35 |
| 期: | 10 |
| 页: | 106001 |
| 联系作者: | 张淑祥 |
| 收录类别: | |
| 影响因子: | 0.371 |
| 摘要: | |
| 英文摘要: | |
| 外单位作者单位: | |
| 备注: | |
科研产出