| 论文编号: | 1725110120150097 |
| 第一作者所在部门: | 高频高压中心,微电子重点实验室 |
| 论文题目: | Reducing the interface trap density in Al2O3/InP stacks by low-temperature thermal process |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | Applied Physcis Express |
| 年: | 2015 |
| 卷: | |
| 期: | 8 |
| 页: | 0912011-0912014 |
| 联系作者: | 王盛凯,刘洪刚 |
| 收录类别: | |
| 影响因子: | 2.365 |
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| 外单位作者单位: | |
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科研产出