Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas--中国科学院微电子研究所

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论文编号:	1725110120160367
第一作者所在部门:
论文题目:	Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas
论文题目英文:
作者:	林来存
论文出处:
刊物名称:	J Mater Sci: Mater Electron
年:	2016
卷:
期:	1
页:	1
联系作者:	曹立强
收录类别:
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英文摘要:
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