| 论文编号: | 1725110120160269 |
| 第一作者所在部门: | |
| 论文题目: | Effective solution for the 14nm node multiple patterning lithography |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 于丽贤 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | 2016 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) |
| 年: | 2016 |
| 卷: | |
| 期: | 7463989 |
| 页: | 1 |
| 联系作者: | 韦亚一 |
| 收录类别: | |
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| 外单位作者单位: | |
| 备注: | |
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