| 论文编号: | 1725110120160266 |
| 第一作者所在部门: | |
| 论文题目: | A novel mask structure for measuring the defocus of scanner |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | 董立松 |
| 论文出处: | |
| 刊物名称: | SPIE Advanced Lithography，International Society for Optics and Photonics |
| 年: | 2016 |
| 卷: | |
| 期: | 9778 |
| 页: | 97782A |
| 联系作者: | 韦亚一 |
| 收录类别: | |
| 影响因子: | |
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| 备注: | |
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