论文编号: 1725110120160169
第一作者所在部门:
论文题目: Investigation of the Interface Quality and Reliability of 4H-SiC MOS Structure with NO and Forming Gas Annealing Treatment
论文题目英文:
作者: 彭朝阳
论文出处:
刊物名称: Materials Science Forum
: 2016
:
: 858
: 647
联系作者: 申华军
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