| 专利名称: | 多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 01118806.5 |
| 申请日期: | 2001-06-14 |
| 专利号: | CN1392592 |
| 第一发明人: | 郑英奎 和致经 吴德馨 刘明 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、分三次在所需材料衬底上匀胶，形成符合胶结构；步骤2、电子束光刻；步骤3、分别在所需材料衬底上进行三次显影，形成T型槽；步骤4、蒸发栅金属：钛/金＝300/3000A；步骤5、剥离形成T型栅。 |
| 其它备注: | |
科研产出