| 专利名称: | TaN材料腐蚀溶液以及TaN材料腐蚀方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200810223349.6 |
| 申请日期: | 2008-09-26 |
| 专利号: | CN101397499 |
| 第一发明人: | 李永亮 徐秋霞 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明是关于一种TaN材料腐蚀溶液以及TaN材料腐蚀方法。该TaN 材料腐蚀溶液，以重量百分比计包括：NH4OH：1.47％-7.26％；H2O2： 3.00％-24.91％；以及余量的水。所述的TaN材料腐蚀方法，是对于厚度小 于400埃的TaN可采用光刻胶作为掩膜，先以重量百分含量为3.25％-10.44％ 的HF、7.17％-21.95％的HNO3以及余量的水组成的溶液对TaN材料进行腐蚀， 再以重量百分含量为1.47％-7.26％的NH4OH，3.00％-24.91％的H2O2以及余量 的水组成的溶液对TaN材料进行腐蚀；对于厚度大于400埃的TaN，必须采 用硬掩膜，直接以重量百分含量为1.47％-7.26％的NH4OH，3.00％-24.91％的 H2O2以及余量的水组成的溶液对TaN材料进行腐蚀。 |
| 其它备注: | |
科研产出