| 专利名称: | 一种制作微透镜阵列的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200810222332.9 |
| 申请日期: | 2008-09-17 |
| 专利号: | CN101676798 |
| 第一发明人: | 董立军 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
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| 专利摘要: | 本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法，该方法包括：在透明衬底 上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块； 熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩 膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明 衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状； 去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微 透镜的阵列结构。利用本发明，可以制作多层透镜阵列，并能够与传统的 集成电路离子注入光刻工艺相集成，适合大规模生产。 |
| 其它备注: | |
科研产出