| 专利名称: | 用于表征硅与二氧化硅界面特性的光学系统及方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200810224907.0 |
| 申请日期: | 2008-10-24 |
| 专利号: | CN101726496A |
| 第一发明人: | 毕津顺 海潮和 韩郑生 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明公开了一种用于表征硅与二氧化硅界面特性的光学系统，包括：由硅材料与二氧化硅材料形成的待测样品，该待测样品中具有一硅材料与二氧化硅材料形成的界面；位于待测样品靠近二氧化硅材料一侧的激光产生装置，用于产生向待测样品以一定角度入射的入射激光；位于入射激光光路上的掩蔽物开关，用于掩蔽或允许入射激光向待测样品入射；位于入射激光经待测样品中界面反射后形成的反射激光光路上的棱镜，用于分离不同波长的反射激光，使波长为400nm的反射激光入射到光电倍增管；位于棱镜出射激光光路上的光电倍增管，用于接收棱镜分离出的波长为400nm的反射激光。本发明同时公开了一种用于表征硅与二氧化硅界面特性的光学方法。 |
| 其它备注: | |
科研产出