| 专利名称: | 半导体二氧化碳超临界吹扫清洗机 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200810226688.X |
| 申请日期: | 2008-11-19 |
| 专利号: | CN101740337A |
| 第一发明人: | 惠瑜 景玉鹏 |
| 其它发明人: | |
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| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 本发明公开了一种半导体二氧化碳超临界吹扫清洗机，其清洗腔内有磁动旋转装置。二氧化碳超临界流体具有零表面张力、低粘滞度、强扩散能力和溶解能力，可以对硅片上的微细结构进行有效清洗和超临界干燥。该半导体二氧化碳超临界吹扫清洗机的主要结构是清洗腔，在设计中通过加入磁旋转结构，配合喷嘴，可以达到理想的清洗效果。该设备的开发和研制，可以大大推动半导体清洗技术的发展。 |
| 其它备注: | |
科研产出