| 专利名称: | 一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法 |
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| 申请号: | 200510005742.4 |
| 申请日期: | 2005-01-25 |
| 专利号: | CN1811598 |
| 第一发明人: | 陈杰智 张建宏 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明涉及范围是微细加工技术领域，特别是一种版图设计灵活控 制电子束光刻显影时间的方法。曝光数据文件由正式曝光版图和测试版 图组成；将测试版图在曝光过程中设计一组变剂量，显影时间可以根据 测试版图的显影情况而灵活控制。在正式曝光版图中增加设计一组不同 剂量的图形，通过观察这些图形的显影情况来确定正确的显影时间。所 述的测试图形的版图是根据正式曝光版图来设计的，具有很大的灵活性。 这种设计方案简单易行，尽可能的降低了偶然因素对显影结果的影响， 使显影后图形与设计图形保持很好的一致性。可广泛用于电子束曝光中 的版图设计。 |
| 其它备注: | |
科研产出