| 专利名称: | 单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200510011988.2 |
| 申请日期: | 2005-06-23 |
| 专利号: | CN1884039 |
| 第一发明人: | 李超波 陈大鹏 叶甜春 王玮冰 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 一种单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法，包括：1. 在单晶硅基片上双面生长氮化硅薄膜；2.用加热的氢氧化钾溶液各向异 性腐蚀氮化硅；3.在正面甩正性光刻胶；4.在背面甩正性光刻胶，光 学光刻背面窗口图形；5.各向异性刻蚀有光刻图形面；6.去除光刻胶； 7.在正面甩正性光刻胶，光学光刻正面氮化硅梁图形；8.在有光刻图 形的一面蒸发、剥离铬薄膜；9.各向异性刻蚀有铬薄膜覆盖的氮化硅； 10.各向同性腐蚀去除铬薄膜；11.在有氮化硅梁图形的正面甩正性光 刻胶，光学光刻正面隔离金图形；12.蒸发、剥离金；13.用加热的氢 氧化钾溶液各向异性腐蚀基片，完成镂空的双材料微悬臂梁热隔离结构 焦平面阵列的制作。 |
| 其它备注: | |
科研产出