专利名称: 一种分子尺度界面SiO2的形成和控制方法
专利类别: 国际专利
申请号: PCT/CN2012/071703
申请日期: 2012-02-28
专利号: US8,822,292
第一发明人: 徐秋霞
其它发明人: 徐秋霞;许高博
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况: 授权
专利证书号: US8,822,292
专利摘要:
其它备注: 中国科学院微电子研究所