一种后栅工艺假栅的制造方法和后栅工艺假栅 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种后栅工艺假栅的制造方法和后栅工艺假栅
专利类别:	国际专利
申请号:	PCT/CN2012/086397
申请日期:	2012-12-12
专利号:	9419095
第一发明人:	李春龙;李俊峰;闫江;赵超
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	9419095
专利摘要:
其它备注:	十室

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