一、项目名称
真空腔体定制开发技术服务
二、单一来源采购理由说明
中国科学院微电子研究所承担的 “EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开发” 课题的主要研究任务为研制真空环境下的调焦调平原理样机。
在原理样机研制过程中，需要真空兼容的宏动台承载样品进行精密运动，同时需要定制真空腔体一套，以满足宏动台的验证测试，进而完成调焦调平原理样机的验证测试。真空腔体需要集成精密的隔振系统、温控系统、运动台，以满足EUV光刻机对焦部件的测试，因此需要真空腔体定制开发技术服务。
为保障按期顺利完成项目指标，中国科学院微电子研究所委托中国科学院光电技术研究所承担真空腔体定制开发技术服务。中国科学院光电技术研究所具有开发研制：真空度优于1×10-5Pa，直径大于2米的真空腔体；隔振指标为XY方向9Hz~500Hz时，传递率优于-30db，Z方向20Hz~500Hz时，传递率优于-30db的隔振系统；温控精度优于0.05℃@1hour的温控系统及整体集成和调试的能力和经验，并完成了多项真空相关光刻研发项目。
综上所述，中国科学院微电子所委托中国科学院光电技术研究所进行真空腔体定制开发技术服务，且为单一来源采购。
三、该项目拟委托中国科学院光电技术研究所提供技术服务。
四、征求意见期拟从2019年9月16日至2019年9月20日止。
本项目公示期为2019年9月16日至2019年9月20日。有关单位和个人如对公示内容有异议，请在2019年9月20日15:00（北京时间）之前以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式反馈至中国科学院微电子研究所，地址：北京朝阳区北土城西路3号，邮编：100029，联系电话：82995706。
中国科学院微电子研究所
2019年9月16日
综合信息