当前位置 >> 首页 >> 学习园地 >>  业内热点

业内热点

氮极Ⅲ族氮化物隧道结发光二极管的首次展示

稿件来源:今日半导体 责任编辑:ICAC 发布时间:2020-08-03

  中国和沙特阿拉伯的研究人员首次展示了氮极隧道结(TJ)氮化铟镓(InGaN)发光二极管(LED),研究人员称,以前已经报道了具有良好性能的N极隧道结,但是目前仅获得了III极III型氮化物TJ-LED。

  研究团队使用极化掺杂的氮化铝镓(AlGaN)来提高TJ的性能,产生更高的空穴浓度,并增加了从电极散布的横向电流。这项工作中的隧道结电流密度仍低于所报道的N极GaN / InGaN / GaN TJ的电流密度,这可能是由于在隧道结中使用富铝AlGaN。

  对隧道结的顶部n-GaN层进行优化,使用连续的氨水(NH3)以及交替爆裂的硅烷和三甲基镓(TMG)进行定期掺杂。研究认为与在N极GaN中进行常规连续Si掺杂相比,周期性的Si-δ掺杂中V坑的形成受到抑制可能与拉伸应力的降低有关。

  隧道结下方的p-AlGaN层,保持相对较薄的75nm,以优化渐变成分的极化掺杂效果。 p型镁掺杂剂由双环戊二烯基镁(Cp2Mg)提供。空穴浓度和迁移率分别为9×1017 / cm 3和7.5cm 2 / V-s。在隧道结的p型和n型层之间放置一个薄Al0.4Ga0.6N中间层。

  隧道结使给定的正向电压可以实现更高的电流,两个器件的开启电压均为约2.5V。在线性区域中,隧道结的总电阻为264Ω,参考器件中的总电阻为439Ω。两种器件的峰值波长均为430nm。

  在光输出方面,通过注入20A / cm2,TJ-LED的光输出强度提高了70%。外部量子效率(EQE)也更高,在20A / cm2时为1.7倍,研究人员将改进的性能归因于TJ-LED较低的总电阻。

附件:
相关新闻:
GaN和SiC功率半导体市场不断发展
E型GaN晶体管的转移印刷和自对准蚀刻
改善氮化镓μ发光二极管的MOCVD隧道结